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磁控濺射鍍膜設備

簡要描述:1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備。
2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統(tǒng)、真空獲得系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏自動控制系統(tǒng)等組成。
3.該設備主機與控制一體化設計,操控方便;結構緊湊,占地面積小。

  • 所在城市:無錫市
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新日期:2025-01-08
  • 訪  問  量:2265

詳細介紹

品牌LEBO/雷博
  磁控濺射鍍膜設備是一種先進的物理氣相沉積(PVD)技術,其核心在于利用濺射效應將靶材原子轉移到基材表面,從而形成薄膜。濺射效應是指當高能離子撞擊固體表面時,靶材表面原子被擊出并散射的現(xiàn)象。
 
  在磁控濺射過程中,首先在真空腔體中引入惰性氣體(通常是氬氣)。當高壓電場作用于氣體時,氬氣被電離形成等離子體,這種等離子體由帶正電的離子和自由電子組成。等離子體中的高能氬離子在電場的加速下撞擊靶材表面,導致靶材原子被濺射出來。這些濺射出的原子隨后沉積在基材上,逐層形成所需的薄膜。
 
  1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備。
 
  2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統(tǒng)、真空獲得系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏自動控制系統(tǒng)等組成。
 
  3.該設備主機與控制一體化設計,操控方便;結構緊湊,占地面積小。
 
  4.主要用途:
 
  1. 開發(fā)納米級單層、多層及復合膜層等。
 
  2. 制備金屬膜、合金膜、半導體膜、陶瓷膜及介質膜等,例:銀、鋁、 銅、鎳、鉻、鎳鉻合金、氧化鈦、氮化鈦、氮化鉻、ITO......
 
  3. 兩靶單獨濺射、依次濺射、共同濺射。
 
  5.應用領域:
 
  1. 高校、科研院所的教學、科研實驗及生產型企業(yè)前期探索性實驗及開發(fā)新產品等。
 
  2. 鈣鈦礦太陽能電池、OLED、OPV 太陽能電池等行業(yè)。
 
 

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